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功率1.5-2.2KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產量為 0– 700 升/小時（水），GM使用雙端面機械密封，在通冷卻水的情況下，可24小時連續使用，GM也可以通過變換模塊，可以實現多功能多用途，是實驗室中試生產的好選擇。
專為實驗室研發，模擬生產流程，為量產提供可靠的數據論證。該中試型型機器和大型量產機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數在量產化之后不要重新調整，而將機器型號升級過程中的風險降到更低。
GMD2000/4為研磨分散機的技術參數：功率4 KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機器產量為 0– 50 升/小時（水），重量55KG, 尺寸 (長寬高）((450X250X350)MM，PP使用雙機械密封，可24小時不停機連續生產。
GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
根據一些行業特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，粒經分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設備。
上海思峻機械設備有限公司另外一項獨特的創新，就是GMC2000系列陶瓷膠體磨,它的設計使其功能在原有的GMC2000系列膠體磨的基礎上又進了一步。由于這項GMC2000系列陶瓷膠體磨能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。
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